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飞凯材料:公司自主研发的半导体先进封装用厚膜负性光刻胶可良好适配25D3D先进封装工艺

发布时间:2026-04-14 06:19:44浏览次数:

  证券日报网讯  4月13日,飞凯材料在互动平台回答投资者提问时表示,公司有生产应用于半导体制造及先进封装领域的锡球、环氧塑封料、光刻胶及湿制程电子化学品如显影液、蚀刻液、剥离液、电镀液等。其中,公司自主研发的半导体先进封装用厚膜负性光刻j6国际胶可良好适配2.5D/3D先进封装工艺,具备高解析度等优异性能,该产品已完成验证且正在向客户端导入,目前尚未实现j6国际量产,对公司营收业绩影响较小。

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飞凯材料:公司自主研发的半导体先进封装用厚膜负性光刻胶可良好适配25D3D先进封装工艺(图1)

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