弘元新材料申请利用光刻胶作掩膜制备poly图形化的光伏电池制造方法专利，可有效降低寄生吸收

　　南昌硅基半导体科技申请半导体结构及其制备方法专利，避免了在制备较窄电极图形过程中的套刻问题

　　容大感光涨0.49%，成交额12.69亿元，近3日主力净流入1.62亿

　　南大光电：公司ArF光刻胶有六款产品通过客户验证并实现销售，目前50吨产能尚未满产

　　南大光电：ArF光刻胶有六款产品通过客户验证并实现销售 目前50吨产能尚未满产

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　　日本根本不敢禁光刻胶，介文汲：敢切断中国市场，高市早苗爽两秒痛苦一辈子

　　信联电子申请KrF光刻胶性能检测方法及系统专利，保证精度并提高检测效率